Az EUV litográfiai gépek kulcsfontosságú berendezések a modern chip -gyártásban, és az egyik alapvető alrendszerük a - Plasma (LPP) EUV fényforrás lézer. Korábban ennek a forrásnak a globális piaca elsősorban a Cymer, az amerikai vállalat által gyártott CO2 lézerekre támaszkodott. Ezek a lézerek az SN plazmákat izgatják az 5%-ot meghaladó energiaátalakítási hatékonysággal (CE), és az ASML litográfiai gépek hajtó fényforrásaként szolgálnak. Az ASML jelenleg az egyetlen litográfiai gépgyártó a világon, amely képes EUV fényforrásokat használni, fenntartva a 100% -os piaci részesedést ezen a területen. Az Egyesült Államok Kereskedelmi Minisztériuma által a Kínával kapcsolatos exportellenőrzések miatt azonban az ASML és más chip -társaságok 2019 óta tiltották a -}}}} EUV litográfiai modellek értékesítését, súlyosan akadályozva a kínai chipipar fejlődését.
De a kínai kutatók nem voltak hajlandóak. Évekig tartó kemény munka után Lin Nan csapata új megközelítést úttörője volt, szilárd - állapot impulzusos lézereket alkalmazva a CO2 lézerek helyett a hajtófény forrásként. Jelenleg a csapat 1 um szilárd anyagának - állami lézere maximális konverziós hatékonyságot ért el, 3,42%. Noha még nem haladja meg a 4% -ot, meghaladja a kutatócsoportok teljesítményét Hollandiában és Svájcban, és a kereskedelmi fényforrások 5,5% -os konverziós hatékonyságának fele. A kutatók becslése szerint a fényforrás -kísérleti platform elméleti maximális konverziós hatékonysága 6%-kal megközelíthető, a jövőben további javulási lehetőségekkel. A releváns kutatási eredményeket nemrégiben tették közzé a China Laser Magazine 6. számának (március végén) 2025 -es számának borítóján.
Lin Nan, a cikk megfelelő szerzője, erőteljesen támogatja ezt az eredményt kutatási hátterével és szakértelmével. Jelenleg kutató és doktori felügyelő a Sanghaji Optikai és Precíziós Mechanika Intézetben, a Kínai Tudományos Akadémia, a Nemzeti tengerentúli High {{1} szintű tehetség, az Ultra Nemzeti Kulcsfontosságú Laboratórium igazgatóhelyettese, az Integrált Környezeti Társaság és az Integrált Környezetvédelmi Társaság Integrált Környezetvédelmi Társaság és az Integrált Környezetvédelmi Társaság szakterületének főigazgatója, valamint az Integrált Környezetvédelmi Társaság tagja, és az Integrált Környezetvédelmi Társaság tagja, és az Integrált Környezetvédelmi Társaság tagja. Mikro - A Kínai Optikai Műszaki Társaság Nano Bizottsága. Lin Nan korábban kutató tudósként, majd a fényforrás -technológia vezetőjeként dolgozott az ASML K + F osztályán, a hollandiai ASML -ben. Több mint egy évtizedes tapasztalattal rendelkezik a kutatás, a mérnöki projektek fejlesztése és a nagy- skála integrált áramköri gyártási és mérőberendezések kezelésében. Több mint 110 nemzetközi szabadalmat igényelt és kapott az Egyesült Államokban, Japánban, Dél -Koreában és más országokban, amelyek közül sokat forgalmaztak és beépítettek a legújabb litográfiai gépekbe és metrológiai berendezésekbe. A svédországi Lund Egyetemen végzett, ahol 2023 -ban a Nobel -díjnyertest a Physics Anne L'Huillier -ben tanult. Közös doktori fokozatot kapott a Párizsban - Saclay Egyetemen és a Francia Atomenergia Ügynökségtől, és posztdoktori kutatásokat végzett a svájci Eth Zürichben.
Ez év februárjában a Lin Nan csapata borítópapot tett közzé a „Progress in Lasers and Optoelectronics” folyóirat harmadik kiadásában, javasolva egy szélessávú extrém ultraibolya fényhatékony generációs sémát, amely a térben korlátozott lézer -ón plazmán alapul, amely magas - áteresztési mérési méréshez használható a fejlett node -félévek átterjedési mérésére. A séma 52,5%-os konverziós hatékonyságot ért el, ami a legmagasabb konverziós hatékonyság, amelyet a mai napig a szélsőséges ultraibolya sávban jelentettek. A jelenleg kereskedelmi magas - rendelési harmonikus fényforráshoz képest az átalakítási hatékonyság körülbelül 6 nagyságrenddel javul, és több új technikai támogatást nyújt a hazai litográfiai mérési szinthez.
A Lin Nan csapata által kifejlesztett szilárd - State Laser - alapú platform különbözik a CO2 - által vezérelt technológiától, amelyet az ASML ipari litográfiai berendezéseiben használnak. A papír kimondja, hogy "még csak 3%-os konverziós hatékonyság mellett szilárd - állapot lézer - hajtott LPP - Az EUV források képesek lesznek a Watt - szintű teljesítményt nyújtani, így alkalmassá teszik őket az EUV expozíció ellenőrzésére és a maszk -ellenőrzésre." Ezzel szemben a kereskedelmi CO2 lézerek, bár magas - energia, terjedelmesek, alacsony elektro - optikai konverziós hatékonysággal (kevesebb mint 5%), és magas működési és energiaköltségekkel járnak. A szilárd - állapotú impulzusos lézerek viszont gyorsan haladtak az elmúlt évtizedben, jelenleg elérték a kilowatt szintű teljesítményt, és várhatóan a jövőben több mint tízszeresére fognak elérni.
Bár a szilárd - állami lézer - által vezérelt plazma EUV forrásokkal kapcsolatos kutatása továbbra is a korai kísérleti szakaszban van, és még nem érte el a teljes forgalomba hozatalt, a Lin Nan csapatának kutatási eredményei fontos technikai támogatást nyújtottak a szilárd - State Laser - vezette plazma eUv litográfiai litográfiai litográfiás litográfiai fejlõdõkhöz és a méréshez. Far - Kína független kutatása és fejlesztése szempontjából jelentőséggel bír az EUV litográfia, valamint annak kulcsfontosságú alkotóelemei és technológiái szempontjából.
A hónapban a befektetői konferencia -beszélgetés során, az ASML Roger Dassen pénzügyi igazgatója kijelentette, hogy tisztában van Kína előrehaladásával a litográfiai helyettesítő technológiában, és elismerte, hogy Kína potenciálisan előállíthatja az EUV fényforrásokat. Még mindig azt hitte, hogy Kína sok évbe telik, hogy fejlett EUV litográfiai berendezéseket készítsen. A kínai kutatók folyamatos áttörése és folyamatos áttörése azonban fokozatosan megsérti ezt az elvárást. 2024 -ben az ASML 28,263 milliárd euró nettó árbevételt ért el, egy év - - 2,55%-os növekedést, új rekordot állítva. Kína lett a legnagyobb piac, 10,195 milliárd eurós értékesítéssel, globális bevételének 36,1% -át teszi ki. Még a jelenlegi félvezető exportellenőrzések és tarifák összefüggésében az ASML azt várja el, hogy a kínai értékesítés 2025 -ben a teljes bevételének valamivel több mint 25% -át teszi ki. A Kína chipiparának növekedése megállíthatatlan.
